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        利用磁性石墨烯實現2D自旋邏輯存儲技術
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        大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備 RTR-150
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        產品名稱

        大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備 RTR-150

        設備型號:RTR-150 設備簡介: 該設備為我司研發用于材料連續生長的專用設備,此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐,它由高溫生長腔體,質量流量計氣路系統,真空機組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放卷的密封裝置),收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點。
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        0.00
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        產品描述
        產品參數

        加熱系統

        最高溫度

        1200℃

        使用溫度

        ≤1100℃

        爐管尺寸

        Φ150mm(爐管直徑可根據實際需求定制)

        爐膛材料

        氧化鋁、高溫纖維制品

        熱電偶

        K型熱電偶

        控溫精度

        ±1℃

        控溫方式

        30段可編程控溫,PID參數自整定,操作界面為7”工控電腦,內置PLC控制程序

        加熱區長度

        200+200+200mm

        加熱元件

        電阻絲

        供電電源

        單相,220V  50Hz

        PE系統

        功率輸出范圍

        0W~1000W

        最大反射功率

        200W

        射頻輸出接口

        50 Ω, N-type, female

        功率穩定度

        ≤5W

        諧波分量

        ≤-50dbc

        供電電壓

        單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ

        整機效率

        ≥70%

        功率因素

        ≥90%

        冷卻方式

        強制風冷

        三路質子流量控制系統

        連接頭類型

        雙卡套不銹鋼接頭

        標準量程(N2)

        200sccm,500sccm、1000sccm(可根據用戶要求定制)

        準確度

        ±1.5%F.S

        線性

        ±1%F.S

        重復精度

        ±0.2%F.S

        響應時間

        氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

        工作壓差范圍

        0.1~0.5 MPa

        最大壓力

        3MPa

        接口

        Φ6,1/4''

        顯示

        4位數字顯示

        工作環境溫度

        5~45高純氣體

        壓力真空表

        -0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

        截止閥

        Φ6

        內外雙拋不銹鋼管

        Φ6

        低真空機組

        空氣相對濕度

        ≤85%

        工作環境

        5℃~40℃

        工作電壓

        380V

        功率

        1KW

        抽氣速率

        32m³/h

        極限真空

        5X10-1Pa(空載冷態)

        工作壓力范圍

        1.01325X105~1.33X10-2Pa

        耐壓值

        0.03MPa

        進氣口口徑

        KF40

        排氣口口徑

        KF40

        連接方式

        采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連

        未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
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