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        臺面式等離子體增強真空回轉爐 BTF-1200C-R-PECVD
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        產品名稱

        臺面式等離子體增強真空回轉爐 BTF-1200C-R-PECVD

        設備型號:BTF-1200C-R-PECVD
        所屬分類
        零售價
        0.00
        數量
        -
        +
        庫存
        0
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        產品描述
        產品參數

        該款設備是全自動Plasma增強PECVD系統,連續可控溫度以及Plasma強度等,配備真空系統,可以低壓條件下進行實驗,PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區,輝光相對均勻等效,有效的解決了傳統等離子工作不穩定狀態,該設備爐管可360°旋轉,有助于粉料的燒結更均勻。
         

        1)加熱系統2)Plasma系統3)爐管轉動系統4)觸屏操作系統5)進出氣法蘭組件6)爐管 7)真空系統。

        (1)加熱系統:

        該加熱系統的加熱腔體采用氧化鋁纖維制品,其極低的熱導率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,該系統設置有超溫、欠溫、斷偶報警保護功能,大大降低了對操作人員經驗的要求。溫區為單溫區,溫區長440mm,異形石英管規格采用Φ60*Φ100*1200。

        (2)Plasma系統:

        本系統借助于輝光放電產生等離子體,輝光放電等離子體中,電子密度高,通過反應氣態放電,有效利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式。

        (3)爐管轉動系統:

        爐管轉動系統可以讓爐管360°勻速轉動,轉速在0.25-25r/min連續可調。

        (4)觸屏操作系統:該系統可以讓設備在自動模式下高度自動化運行,所有參數程序設定好后自動運行:可實現按照設定程序連續工作,可設置多工作段不同參數,并可進行某工作段循環工作及某程序循環工作。

        (5) 進出氣法蘭組件:設備法蘭左端為進氣端,一側配有球閥控制的進氣口,另一側預留KF25接口,上部配有壓力表,左側端面為KF50接口。右端為出氣端,一側由球閥控制的出氣口,另一側為KF25抽口,上部配有真空計,右側端面為KF50接口。

        (6)爐管:爐管為異形石英管,通過左右兩端磁流體密封法蘭實現真空下的回轉,

        (7)真空系統:由一個電容真空計和一臺DRV16機械泵組成,抽口端由KF25手動擋板閥控制,并配有粉塵過濾器。

         

        額定功率

        4KW

        額定電壓

        AC 220V

        最高溫度

        1200℃

        使用溫度

        ≤1100℃

        爐管尺寸

        異型管 Φ60*100*1200mm一根

        爐管旋轉速率

        3~13r/min

        熱電偶類型

        K型熱電偶

        控溫精度

        ±1℃

        控溫方式

        模糊PID控制和自動整定調節,智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能

        射頻功率范圍

        0-500W

        加熱長度

        440mm

        恒溫長度

        200mm

        加熱元件

        電阻絲

        未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
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